Технологический прорыв! Вакуумная печь спекания Junger Zhicheng достигла стабильной работы при сверхвысокой температуре 2400°C, способствуя импортозамещению полупроводниковых материалов 

Недавно компания ООО Цзянсу Цзюньгэ Чжичэн Технология (далее именуемая «Цзюньгэ Чжичэн») сообщила о крупном технологическом прорыве: разработанная ею горизонтальная вакуумная высокотемпературная печь для спекания успешно достигла стабильной длительной работы при сверхвысокой температуре 2400°C. Ключевые характеристики оборудования достигли передового международного уровня, что позволило полностью преодолеть технологическую монополию зарубежного высокотехнологичного оборудования для спекания в области полупроводников и современной керамики, придав мощный импульс процессу импортозамещения высококачественных углеродных материалов в Китае.

Являясь высокотехнологичным предприятием, специализирующимся на исследованиях, разработках и производстве высокотемпературного термического оборудования, компания Junger Zhicheng глубоко специализируется в таких ключевых областях, как вакуумное спекание, высокотемпературная очистка и графитизация. Разработанная в этот раз инновационная вакуумная высокотемпературная печь для спекания является критически важным оборудованием для производства графитовых изделий для полупроводников, керамики из карбида кремния (SiC) и углерод-углеродных (C/C) композиционных материалов. По словам технического руководителя предприятия, в данной модели используется графитовый резистивный нагрев и оптимизированная конструкция теплового поля для реализации независимого многозонного температурного контроля. Точность регулирования температуры достигает ±1°C, разница температур в зоне равномерного нагрева составляет ≤±3°C, а предельный вакуум может достигать 5×10⁻³ Па. Это позволяет эффективно избегать таких дефектов, как окисление, обезуглероживание и образование пор в процессе высокотемпературного спекания, обеспечивая плотность изделий и стабильность их характеристик.

По сравнению с традиционными печами для спекания, данная вакуумная высокотемпературная печь от Junger Zhicheng получила ряд обновлений ключевых параметров и технических деталей: размеры камеры могут быть настроены в соответствии с требованиями заказчика (от Φ1050×1000 мм до Φ1750×1560 мм), что позволяет адаптировать оборудование под различные объемы производства; двойные стенки с водяным охлаждением поддерживают температуру поверхности ниже 60°C, обеспечивая безопасность и энергоэффективность; интегрированная система крекинга и фильтрации отработанных газов обеспечивает нулевой выброс ЛОС (VOC), что соответствует государственным стандартам по охране окружающей среды и промышленной безопасности; система управления на базе ПЛК и ПК поддерживает сохранение параметров техпроцесса, отслеживаемость данных и удаленный мониторинг, значительно повышая уровень интеллектуализации производства.

Сообщается, что данная вакуумная высокотемпературная печь для спекания уже прошла пилотные испытания и успешно применяется на ряде отечественных полупроводниковых предприятий для производства изделий из графита высокой чистоты, а также для спекания керамических подложек из карбида кремния (SiC). Доля выхода годной продукции увеличилась более чем на 15% по сравнению с традиционным оборудованием, а эффективность производства выросла на 30%, что получило высокую оценку заказчиков. Представитель компании Junger Zhicheng заявил, что данный технологический прорыв не только демонстрирует научно-исследовательский потенциал предприятия, но и восполняет пробел на внутреннем рынке высокотехнологичного сверхвысокотемпературного вакуумного оборудования для спекания. В будущем компания продолжит оптимизировать характеристики продукции, способствуя высококачественному развитию стратегических развивающихся отраслей Китая, таких как полупроводниковая промышленность и производство современной керамики.